ENI GHW-50 射频电源（RF Generator）由美国 MKS ENI 出品，输出功率高达 5kW，标准工作频率 13.56 MHz，广泛应用于等离子蚀刻、PECVD、PVD 镀膜、离子清洗等半导体及光电制造工艺。
整机外观良好，接口完好，已通过基本通电测试。
ENI GHW-50 是一款高功率射频电源发生器，采用稳频振荡与高效放大技术，为真空腔体内的等离子体提供稳定可控的能量输入。
设备支持本地与远程控制，兼容多种匹配网络系统（Matching Network），并具备自动功率调节、故障保护及水冷散热功能。
技术参数 / Specifications
| 参数项目 | 说明 |
|---|
| 型号 / Model | ENI GHW-50 |
| 品牌 / Brand | ENI / MKS Instruments |
| 输出功率 / Output Power | 5 kW（5000 W）连续可调 |
| 工作频率 / Frequency | 13.56 MHz（固定） |
| 电源输入 / AC Input | 380–480 V 三相，21 A，50/60 Hz |
| 控制方式 / Control | 本地或远程控制（Analog / Serial） |
| 冷却方式 / Cooling | 水冷（Water-cooled） |
| 通讯接口 / Interface | Analog I/O、RS232、Matchwork Interface、DC Bias、Interlock |
| 尺寸 / Dimension | 约 483 × 177 × 560 mm（标准 19" 机架安装） |
| 重量 / Weight | 约 60 kg |
| 产地 / Made in | USA |
背面接口说明 / Rear Panel Connections
RF OUTPUT：射频功率输出端（连接匹配器或腔体）
ANALOG I/O：模拟输入输出端口（用于远程控制与监测）
SERIAL PORT：串行通信接口
MATCHWORK INTERFACE：与匹配网络通讯连接
DC BIAS / INTERLOCK：安全互锁与偏压信号接口
WATER IN / OUT：水冷管路进出接口
应用领域 / Applications
半导体等离子蚀刻设备（Etcher / ICP）
PECVD、PVD 镀膜系统
离子注入与清洗系统
实验室等离子研究设备
包装与配置 / Included Items
成色与状态 / Condition
外观良好，面板干净，按键灵敏
后面接口齐全，标识完整
已通过上电测试，可正常运行
适合科研与生产用途
