【产品名称】韩国Top Engineering 380mm ICP刻蚀机（型号：Hietch LX-380）
【核心参数】
品牌：韩国Top Engineering（半导体干法刻蚀设备头部厂商，专注ICP/CCP技术）
型号：Hietch LX-380（380mm晶圆专用）
生产年份：2014年3月（原厂出厂日期）
晶圆兼容：380mm（覆盖主流半导体工艺尺寸）
机器尺寸：2510mm（长）×1080mm（宽）×1890mm（高）
重量：2000kg（2吨，需叉车/吊装设备）
电源要求：AC220V，3P/4W，50/60Hz，125A（工业级供电）
状态：实验室持续使用（某高校半导体实验室，2014年至今，定期维护，无重大故障）
【产品详情】
本机为Top Engineering经典款ICP（电感耦合等离子体）刻蚀机，采用行业主流的ICP技术路线，通过电感线圈激发高密度等离子体，实现高刻蚀速率、优异均匀性、精准侧壁控制三大核心优势，是半导体集成电路（IC）、MEMS（微机电系统）、化合物半导体（GaAs/SiC）等领域的关键设备。
技术亮点：
等离子体密度高达10¹¹-10¹² cm⁻³，刻蚀速率可达1000Å/min（硅材料）；
晶圆内均匀性≤±5%（380mm全尺寸），满足先进工艺要求；
支持各向异性刻蚀（垂直侧壁），适用于沟槽、接触孔、深孔等结构；
兼容多种材料：硅、铝/铜金属、二氧化硅/氮化硅介质、光刻胶等；
配备工业级控制系统（带17寸显示器+键盘），支持实时监控等离子体功率、真空度、气体流量等参数，操作界面友好。
【使用背景与优势】
该设备自2014年投入使用以来，一直在高校半导体实验室运行，主要用于：
IC原型开发（如CPU/GPU的沟槽刻蚀）；
MEMS传感器（如加速度计、陀螺仪）的结构刻蚀；
化合物半导体（如SiC功率器件）的工艺研发。
为什么选择这台二手设备？
性价比极高：全新380mm ICP刻蚀机价格超百万，本机仅为全新机的1/3-1/2；
风险极低：实验室环境清洁，操作规范，关键部件（ICP线圈、真空泵、RF发生器）无明显磨损，原厂维护记录完整；
即买即用：无需长时间调试，直接对接现有实验室气路/电路（220V供电，符合国内工业标准）；
售后保障：提供原厂说明书、维护手册、校准报告，可协助安装调试，质保3个月（核心部件保6个月）。
【应用场景】
【联系我们】
设备位于国内某一线城市实验室，支持现场看货+试机（需提前预约）。如需了解详细工艺参数、维护记录或获取报价，请联系我们的销售团队：
